年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮 (Nitrojeni Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作為⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领其。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热來实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作為氧化剂和推进剂使⽤.

Nitrojeni trifluoride, fomula ya kemikali NF3, ni wakala wa vioksidishaji vikali. Kama gesi maalum ya viwandani, ina anuwai ya matumizi.
Katika tasnia ya uhandisi wa elektroniki, triflouridi ya nitrojeni ni gesi bora ya kuweka plazima; Katika chip ya semiconductor, onyesho la paneli orofa, nyuzinyuzi za macho, seli za photovoltaic na maeneo mengine ya utengenezaji, trifloridi ya nitrojeni hutumiwa zaidi kama gesi ya kuchomea plasma na wakala wa kusafisha cavity ya mmenyuko.
Inaweza pia kutumika katika leza za kemikali zenye nishati nyingi ili kufikia matumizi yake kwa kukabiliana na hidrojeni kutoa kiasi kikubwa cha joto papo hapo. Trifluoride ya nitrojeni pia hutumika kama mafuta yenye nishati nyingi na kama kioksidishaji na kichochezi katika kurusha roketi.